UNISERS Lab Suite 晶圆级化学品颗粒量测系统
把化学品旋涂到控片上，真空镀膜让每颗纳米颗粒形成光学天线，再通过光学扫描读出数量、粒径与化学指纹。可检出 10 nm SiO₂ 颗粒，与晶圆厂 SPx 机台晶圆图相关性 70%～90%，可替代由涂胶显影机、湿法设备与 SP7 搭建的离线晶圆检测实验室：1 人操作、占地不到 8 m²、单次样品 100～500 mL。
- 可替代 SP7 离线晶圆测试：无需再搭建涂胶显影机＋湿法设备＋SP7 实验室
- 可检出 10 nm SiO₂ 颗粒（SP7 19 nm 模式约 23 nm）
- 与晶圆厂 SPx 机台晶圆图相关性 70%～90%，数据与晶圆厂对得上
- SERS 拉曼光谱直接读出颗粒成分，追溯污染来源
- 先进制程晶圆厂与一线化学品厂已导入（A16／N2）
- 现阶段主推中国大陆市场，浚渊直接对接送样与导入评估
可替代 SP7 离线检测一瓶样品，看见 10 nm 颗粒
把化学品滴到晶圆上、镀一层膜，纳米颗粒就会自己“亮”起来。无需搭建整套晶圆检测实验室，也能拿到与晶圆厂 SP 系列检测机台对得上的颗粒数据，还能看出颗粒是什么成分、从哪里来。
- 先进制程晶圆厂已导入
- 一线化学品厂已导入（A16／N2）
- 与 SPx 相关性 70%～90%
SP7 的离线检测，Lab Suite 替代的是哪一部分？
SP7 在晶圆厂承担两类工作：产线上的在线监控，以及实验室里的化学品晶圆测试。Lab Suite 接手的是后者。
为验证化学品洁净度而搭建的“离线晶圆检测实验室”：涂胶显影机（Track）＋湿法设备＋SP7 晶圆颗粒检测机，把化学品涂到控片上，再用 SP7 数颗粒。
- 化学品厂出货前的晶圆级颗粒检验
- 晶圆厂化学品来料检验（IQC）与供应商变更评估
- 新配方、新供应商导入时的批次比对
- 滤芯、管阀件与包材的洁净度验证
产线上针对产品晶圆的在线（in-line）全片缺陷监控，仍由 SP7 这类在线设备承担。量产晶圆厂的在线复检需求，UNISERS 另有 Explorer 系统。
只需三步：滴、镀、照
10 nm 的颗粒比光的波长小几十倍，常规光学方法看不到。Lab Suite 的做法是让每一颗颗粒自己发光。
01滴把杂质集中到晶圆上化学品逐滴旋涂到控片上，液体甩干后颗粒留在表面。滴加量、转速都可以按配方设定，结果可重复、可比对。
02镀给每颗颗粒装上“天线”真空镀上一层纳米级金属膜，每颗颗粒上都会形成一支“光学天线”。不挑晶圆表面材料，裸硅、氮化硅均适用。
03照颗粒亮起来，数量和成分一次读出光一照，“天线”把信号放大，原本漆黑一片的晶圆上，颗粒变成清晰的亮点。SEPS 测出数量与粒径，SERS 拉曼光谱读出化学指纹。
镀膜前：漆黑一片，什么都看不到镀膜后：颗粒逐颗亮起看得比 SP7 更小
同样测量 SiO₂ 标准颗粒：Lab Suite 在 8 nm 模式下可检出 10 nm；SP7 常用的 13 nm 与 19 nm 模式，对应的 SiO₂ 颗粒约为 15 nm 与 23 nm。
SP7 的模式以 LSE 标示，即“散射强度相同的 PSL 标准粒子直径”；按照 SEMI M53，LSE 并不代表颗粒的真实尺寸。SiO₂ 的折射率低于 PSL、散射信号较弱，因此同一模式下实际可检出的 SiO₂ 颗粒会大于标示值。对照数值来自 UNISERS 使用 SiO₂ 标准颗粒所做的比对。
同样是晶圆级数据，投入相差很大
传统做法要把晶圆厂的三类设备搬进实验室；Lab Suite 一套三件式设备即可完成。
| 项目 | 传统离线晶圆检测实验室 | UNISERS Lab Suite |
|---|---|---|
| 设备组成 | 涂胶显影机（Track）＋湿法设备＋SP7 | 旋涂＋镀膜＋扫描三件式 |
| SiO₂ 粒径灵敏度 | 约 15 nm（13 nm 模式）／23 nm（19 nm 模式） | 10 nm（8 nm 模式） |
| 颗粒成分 | 只有数量、粒径与位置；成分需另送 SEM／EDX 复检 | 同一片晶圆直接做 SERS 化学指纹分析 |
| 与晶圆厂数据的对应 | 本身就是晶圆厂设备 | 与 SPx 相关性 70%～90% |
| 设备投资 | $$$$$ | $ |
| 操作人员 | 5 人以上 | 1 人 |
| 场地 | 60 m²＋化学品仓库 | < 8 m² |
| 单次样品量 | 40～100 L | 100～500 mL，沿用现有瓶装取样流程 |
| 可测化学品 | IPA、TMAH、H₂O₂、H₂SO₄ 等通用湿电子化学品 | 通用湿电子化学品，以及功能性化学品（配方液）、CMP 抛光液、CMP 后清洗液 |
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传统实验室一栏依据 UNISERS 技术资料整理，设备投资为相对量级。
不只测得到，还能分出好坏批次
加标多少就测出多少，浓度低至 ppq 级也能看到；用在真实批次上，案例中的异常批次全部检出。
先进制程晶圆厂与一线化学品厂已经在用
在 2 纳米级先进制程中，化学品洁净度已经用这套方法把关。
UNISERS 于 2019 年作为苏黎世联邦理工学院（ETH Zurich）的衍生公司成立，获英特尔投资（Intel Capital）与默克旗下 M Ventures 投资，拥有 6 个专利族。示范实验室设于台湾工业技术研究院量测技术发展中心，可携带样品上机实测。
现阶段主推中国大陆市场
中国大陆湿电子化学品正加速导入先进产线，晶圆级颗粒数据是认证过程中绕不开的一关。Lab Suite 让这份数据在自己厂内就能拿到。
哪些单位用得上这套设备
系统规格
- 测量方式
- 晶圆级测量：顺序旋涂（SSC）→ 真空镀膜信号增强 → 光学扫描
- 分析模式
- SEPS 表面增强粒径测量；SERS 表面增强拉曼光谱
- 粒径检出
- 10 nm SiO₂（8 nm 模式）；15 nm SiO₂ 已完成线性验证
- 浓度检出限
- IPA 约 50 ppq；96% H₂SO₄ 约 30 ppt（15 nm SiO₂）
- 成分识别（SERS）
- 单颗颗粒 50 nm 以上
- 与 SPx 机台相关性
- 70%～90%（裸硅、SiN 晶圆）
- 单次样品量
- 100～500 mL，兼容现有瓶装取样流程
- 适用化学品
- IPA、TMAH、H₂O₂、H₂SO₄ 等通用湿电子化学品；功能性化学品（配方液）；CMP 抛光液；CMP 后清洗液
- 晶圆尺寸
- 100 mm（4 英寸）、300 mm（12 英寸）（实际案例使用）
- 系统组成
- SSC 顺序旋涂机、PVD 镀膜机、光学扫描仪
- 占地／人员
- < 8 m²／1 人
- 升级路径
- 可升级为全自动 Inspector（预计 2027 年出货）
- 原厂
- UNISERS AG（瑞士苏黎世）
数值依据 UNISERS 技术资料与实测案例整理，实际表现取决于化学品种类与测量条件。产品图为依据原厂设备绘制的示意图，外观以原厂实机为准。
为什么需要晶圆级颗粒量测
微污染控制及分析设备，解决的是滤芯拦不住、肉眼也看不到的那一层问题：化学品里的纳米级颗粒，到底有多少、多大、是什么成分、从哪里来。先进制程已进入 2 纳米节点，一颗 10 nm 的颗粒就足以造成缺陷；而高端液体颗粒计数器的检出下限约在 20 nm，晶圆厂真正采信的，是“化学品涂到晶圆上之后，留下多少颗粒”。
主力产品 UNISERS Lab Suite 是晶圆级化学品颗粒量测系统：化学品旋涂到控片上，真空镀膜让每颗颗粒形成光学天线，再通过光学扫描读出数量、粒径（SEPS）与化学指纹（SERS）。可检出 10 nm 的 SiO₂ 颗粒，与 SPx 晶圆图的相关性达 70%～90%，可替代由涂胶显影机、湿法设备与 SP7 搭建的离线晶圆检测实验室：人员从 5 人以上降到 1 人，场地从 60 m² 降到 8 m² 以内，样品量从 40～100 升降到 100～500 mL。
适用对象：湿电子化学品厂的出货检验、晶圆厂化学品来料检验（IQC）与供应商变更评估、功能性化学品与 CMP 抛光液／CMP 后清洗液的洁净度管控，以及滤材、管阀件与包材的洁净度验证。已有先进制程晶圆厂与一线 IPA、配方化学品厂商导入，用于 A16／N2 制程。现阶段主推中国大陆市场，中国大陆化学品厂与晶圆厂可直接联系浚渊送样测试。
UNISERS Lab Suite 能完全替代 SP7 吗？
晶圆级测量和液体颗粒计数器有什么不同？
为什么 Lab Suite 能看到 10 nm 的颗粒？
Lab Suite 的数据和 SP7 对得上吗？
SERS 能分析出什么？
除了 IPA 和硫酸，还能测哪些化学品？
导入一套需要多少人员和场地？
之后可以升级为全自动吗？
可以先送样测试再决定吗？
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