由折疊的多層漸層聚丙烯膜和聚丙烯骨架組成。此系列是化學機械研磨（chemical mechanical polishing，CMP）液大顆粒和膠體去除的理想選擇，特別適用於氧化物、金屬鎢和金屬銅CMP製程中所使用的研磨液的過濾。可有效去除slurry中的團聚顆粒和膠體雜質。此外，濾芯採用的寬幅深層折疊設計大幅提高了過濾面積和納污容量，使其具備超低的壓損和更長的使用壽命。