委託測試服務：半導體濾心潔淨度與溶出物委託測試服務 (Filter Cleanliness & Extractables Testing Service)

服務特色:

• 有機析出物深度分析 (IPA Extraction via GC-MS & NVR): 使用半導體級異丙醇 (Electronic Grade IPA) 進行動態或靜態萃取，利用 GC-MS 鑑定塑化劑、脫模劑與低聚物 (Oligomers) 等特定有機汙染，並透過 NVR (Non-Volatile Residue) 總量管制評估濾心對光阻或溶劑的潛在影響。

• 超微量金屬溶出檢測 (Metal Leaching via ICP-MS): 採用嚴苛的 HCl (鹽酸) 或混酸環境進行破壞性浸泡，激發濾心深層的金屬雜質。配合 ICP-MS 進行 ppt (兆分之一) 等級的 68 種元素掃描，確保無 Fe/Cu/Ni/Na 等危害晶圓良率的金屬離子釋出。

• 客製化應用情境模擬 (Application-Specific Testing): 不局限於標準溶劑，可直接使用客戶指定的 實際製程化學品 (如光阻液、剝離液、高溫硫酸) 進行溶出測試，真實還原上機後的化學相容性與潔淨度表現。

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服務介紹:

在先進製程中，濾心本身極可能成為「汙染源」。一支標示 0.02µm (20nm) 的濾心，若未經嚴格清洗，其釋出的塑膠添加劑 (Additives) 可能導致光阻圖形缺陷 (Pattern Detect)，而微量的金屬離子則會毒化元件。

浚淵科技 濾心潔淨度測試服務 提供了一套完整的「濾心體檢方案」。我們依據 SEMI F57 或客戶指定規範 (Spec)，設計嚴謹的萃取實驗。針對有機汙染，我們利用 IPA 的高滲透性溶出潛在的有機物，並以 GC-MS 進行圖譜指紋比對；針對金屬汙染，則利用 HCl 模擬酸性製程的侵蝕效應。無論是從供應商端 (Vendor) 的出廠品管，還是晶圓廠端 (Fab) 的材料驗證 (IQC)，這份報告都是證明濾心「真正乾淨」的關鍵通行證。

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測試項目與方法 (Testing Specifications):

• 有機溶出物 (定性/定量)

  • IPA (異丙醇) 或 指定有機溶劑: GC-MS (氣相層析質譜儀)鑑定LHC (Linear hydrocarbon)、抗氧化劑、滑劑、低聚物、塑化劑等特定有機分子。

• 不揮發殘留物 (NVR)

  • IPA (異丙醇): 精密微量天平 (Microbalance) 評估溶劑揮發後殘留的總固體量，防止晶圓表面水痕或殘膠。

• 超微量金屬溶出 (metal extractable/leaching)

  • HCl (鹽酸)、HNO3 或指定酸液ICP-MS (感應耦合電漿質譜儀)檢測 Na, K, Ca, Fe, Cr, Ni, Cu, Zn, Al 等關鍵金屬離子 (DL: ppt level)。甚至更難的元素例如 Si (矽), S (硫), B (硼)

• 離子汙染 (Anions)

  • UPW (超純水): IC (離子層析儀)檢測 F-, Cl-, NO3-, SO4 2- 等陰離子殘留。

• 總有機碳 (TOC)

  • UPW (超純水): TOC Analyzer快速評估水系統濾心的有機釋出總量 (TOC Rinse-up)。