專為半導體濕製程與極端化學環境設計的旗艦級液體濾心。採用 100% 全氟結構（PTFE 濾膜搭配 PFA 骨架），無任何黏著劑。具備 0.02 µm 至 10 µm 精度，可耐受 180°C 高溫與強酸強鹼，確保製程化學品的絕對純淨。

專為生物製藥與無菌製程設計的旗艦級 PES 濾心。採用非對稱聚醚碸 (Asymmetric Polyethersulfone) 濾膜，具備卓越的高納汙量與流速表現。通過嚴格的細菌截留驗證 (B. diminuta) 與多次高溫滅菌測試，是疫苗、抗體藥物與注射用水 (WFI) 的最佳無菌屏障。

專為生技製藥與食品業設計的高性價比氣體除菌濾心。採用天然疏水性 PTFE 膜，具備優異的流量與雜質截留能力。符合 ASTM 與 FDA 21 CFR 規範，通過 100% 完整性測試，是發酵槽進氣與高壓滅菌鍋呼吸器的最佳選擇。

專為半導體濕製程設計的旗艦級全氟濾芯。採用高流速 PTFE 濾膜搭配 PFA 骨架，具備 10nm 至 0.2µm 的精密攔截能力。耐受 SC1, SC2, 49% HF, HNO3 與 NMP 等極端化學品，提供超低溶出物與卓越的耐溫性 (最高 180°C)，是先進製程良率的守護者。

專為半導體與光電產業設計的高效能化學濾芯。結合 PTFE 濾膜的優異攔截性與 HDPE 骨架的經濟性，提供 20nm 至 0.2µm 的精密過濾。具備高流速、低壓差特性，適用於 40°C 以下的酸鹼蝕刻與清洗製程，是降低廠務運營成本 (OpEx) 的最佳選擇。

專為電子產業化學品設計的高效濾芯。採用天然疏水性 PTFE 濾膜搭配高品質聚丙烯 (PP) 骨架，兼具優異的化學耐受性與低金屬離子析出特性。耐溫達 70°C，提供 20nm 至 0.2µm 多種精度，是 PCB、面板與半導體製程中有機溶劑過濾的最佳選擇。

專為電子工業超純水與常溫化學品設計的高效能濾芯。採用非對稱親水性 PES 濾膜搭配 HDPE 骨架，具備卓越的高流速與長壽命特性。提供 5nm 至 0.1µm 精密攔截，擁有極低金屬溶出與快速沖洗優勢，是 DI Water 系統與濕製程清洗的最佳選擇。

專為濕蝕刻與清洗製程打造的經濟高效型濾芯。結合親水性 PES 濾膜與高品質 PP 骨架，耐溫可達 70°C。具備 10nm 精密過濾能力，獨特結構能有效減少液體流動時的氣泡產生，是稀酸、稀鹼與製程化學品過濾的高 CP 值首選。

專為半導體黃光微影製程 (SEMI-Photo) 設計的旗艦級 UPE 濾芯。採用疏水性超高分子量聚乙烯 (UPE) 濾膜，提供 2nm 至 0.2µm 的廣泛精度。具備極低的金屬與有機析出物特性，能有效攔截光阻液中的軟質膠體 (Gels) 與微粒，確保先進製程良率。

專為 SEMI-Photo 光刻工藝設計的高效能濾芯。採用天然親水性 Nylon 66 濾膜，提供 2nm 至 0.1µm 的奈米級精度。具備優異的有機潔淨度與低金屬析出，能有效攔截光阻膠與溶劑中的細微顆粒，確保黃光製程的良率與穩定性。