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半導體級 Nylon 66 摺疊濾芯：天然親水與極低有機析出，光阻與溶劑過濾的潔淨標竿

產品特色:

  • 天然親水 Nylon 66 濾膜 (Naturally Hydrophilic Nylon 66): 採用 Nylon 66 材質，天生具備親水特性，無需額外表面改質即可對極性溶劑與光化學品展現優異的潤濕性 (Wettability) 與過濾效率。

  • 極低有機析出物 (Excellent Organic Cleanliness): 專為光阻 (Photoresist) 過濾設計，經過嚴格清洗程序，確保在有機溶劑中的有機物溶出量極低 (Very low level of organic extraction)，避免汙染敏感的光化學反應。

  • 2nm 奈米級攔截 (2nm Retention): 提供從 2nm 到 0.1µm 的寬廣精度選擇，能有效去除光阻液中可能導致晶圓缺陷的膠體 (Gels) 與超微細顆粒。

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產品介紹:

在半導體黃光微影 (Photolithography) 製程中，光阻液與配套溶劑的純淨度至關重要。任何微量的有機析出物 (Organic Extractables) 都可能改變光阻的感光特性，導致線路圖形異常。

半導體級 Nylon 66 摺疊濾芯 是專為解決此問題而生的 SEMI-Photo 專用過濾器。我們選用 天然親水性 Nylon 66 作為核心濾材，它不僅對各類光阻溶劑具有良好的化學相容性，更重要的是具備極低的有機背景值。半導體級 Nylon 66 摺疊濾芯 能在維持高流速的同時，提供低至 2nm 的精密攔截。每一支濾芯皆在潔淨室內生產並通過 100% 完整性測試，確保金屬離子與顆粒脫落 (Particle Shedding) 降至最低，守護您的先進製程良率。

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技術規格表 Spec:

  • 濾膜材質: Nylon 66 (Naturally Hydrophilic)

  • 支撐層/外殼: HDPE / PP 可選

  • 密封圈 (O-ring): EPDM / TEV

  • 過濾精度 (Removal Rating): 2nm, 5nm, 10nm, 20nm, 30nm, 50nm, 0.1µm

  • 有效過濾面積 (每10英吋):

    • 0.7 m²

    • 1.3 m²

  • 最大正向壓差: 0.34 MPa (49 psi) @ 25°C

  • 最高使用溫度: 40°C (104°F)

  • 包裝方式: 乾式包裝 (Dry) 或 超純水預濕潤 (Pre-wet by UPW)

  • 生產環境: 潔淨室內生產 (Manufactured in cleanroom)

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優勢:

  • 優異的有機潔淨度: 相比於某些經過表面改質的濾膜，天然親水的 Nylon 66 提供了更低的有機析出風險，特別適合對有機雜質敏感的先進光阻製程。

  • 2nm 極致過濾: 具備攔截 2nm 微粒的能力，滿足 7nm/5nm 等先進節點對光阻液 Defect 控制的嚴苛要求。

  • 廣泛的化學相容性: 適用於各類 SEMI-Photo 光刻工藝化學品，包括光刻膠、顯影液與各類極性有機溶劑。

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Target Applications (應用場景):

  • 光阻過濾 (Photoresists): ArF, KrF, I-line 等各類光阻液的微粒去除。

  • 黃光溶劑 (Solvents): 顯影液 (Developer)、晶邊清洗液 (EBR)、稀釋液 (Thinner) 的精密過濾。

  • 半導體化學品: 其他 SEMI 光刻工藝中使用的化學品過濾。

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Email: service@jyfiltec.com​

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