浚淵科技
濾心檢測
微汙染諮詢服務
應用工程
Applications Engineering
在各類酸、鹼、有機溶劑中，對濾心進行屬、有機物與顆粒去除效率測試
協助客戶優化整體過濾與淨化流程，降低污染、缺陷
成本評估各式濾心在濕蝕刻、清洗及光阻製程化學品中的相容性
實驗室分析、委測
Analysis
新舊濾心與製程元件 (管材、包材)等的萃取測試、濾效測試
汙染物檢測服務、各式實驗室委測服務
知識轉移服務
Analysis
定性、定量方法開發與轉移
協助實驗室開發創新量測技術
協助客戶在微汙染量測上優化4M1E（人 、機 、料 、法 、環 ），改善量測可靠度
微汙染控制課程、訓練、與顧問服務
濾心、濾膜驗證
浚淵提供完整的濾心、濾膜測試平台
實驗室分析、委測流程
浚淵提供放心的實驗室分析流程。從測試濾心、濾膜測試、到各種微汙染分析
實驗室全分析項目
浚淵以自有實驗室及與全國各大分析實驗室配合，提供完整的各式分析項目
ICPMS
濾心效能分析
GC
ICPQQQ
GCMS
DMA-CPC
LC
LPC
LCMS
NVR
TOC
IC
濾心特性分析
Integrity Test
Flow Rate Test
Retention Test
Lading Capaticy
Porometer
Titration
其他分析
Wafer Defect
SEM / EDS
Others
VPD-ICPMS
FTIR
AFM
服務清單
全面濾心檢測能力 | 與工研院合作開發檢測能量 | 工研院驗證的分析能力
濾心基礎指標
濾心完整性測試
Integrity Test
針對疏水性濾心提供專業完整性測試服務。採用 IPA 預潤濕 (Pre-wet) 配合 壓力保持測試 (Pressure Hold Test)，在固定壓力下精準監測壓力衰減狀況，確保濾心無洩漏且結構完整，符合製程標準。
流量壓差測試
Flow Rate Test
針對液體或氣體製程，建立流量與壓差曲線 (P-Q Curve)。協助客戶評估過濾系統阻力、進行泵浦選型及濾心壽命預估，提供數據以優化製程效率與降低運行成本。
濾心能力指標
微粒釋出測試
Particle Shedding Test
檢測濾心自身的微粒釋出 (Particle Shedding) 特性。利用高靈敏度光學顆粒計數器 (Liquid Particle Counter, LPC)，監測濾心在純水沖洗下的微粒背景值，確保濾心符合高階製程的潔淨度標準，避免對濾液造成二次汙染。
金屬潔淨度測試
Metal Cleanliness Test
採用標準 HCl (鹽酸) 酸萃取 程序模擬嚴苛製程，並導入高階 ICP-MS 8900 (串聯質譜儀) 進行檢測。利用其優異的干擾移除技術 (MS/MS Mode)，精準分析濾心中 ppt 等級 的 微量金屬溶出 (Trace Metal Leaching)，完全符合半導體先進製程的潔淨規範。
非揮發性
殘留物測試
NVR Test
採用標準 IPA (異丙醇) 萃取 程序，配合高精度 5位數天平 (0.01mg 解析度) 進行重量法分析。能精準定量濾心溶出的油脂、寡聚物等 非揮發性殘留物 (NVR, non-volatile residue)，確保濾材潔淨度符合電子級製程的嚴苛規範。
有機潔淨度測試
Organics
Cleanliness Test
結合 IPA 萃取 前處理與高解析度 GC-MS (氣相層析質譜儀) 分析技術。針對濾心溶出的微量有機物進行定性與半定量分析，能精準鑑定出塑化劑、抗氧化劑或油脂等特定有機汙染物成分，協助客戶建立完整的濾材指紋資料庫。
特別針對 長碳鏈 (Long Hydrocarbon Chain, LHC) 進行濃度計算，提供具體的有機殘留量數據，嚴格把關製程潔淨度。
濾效測試
Filter Retention Test
提供業界領先的奈米級濾效測試服務。除了標準 PSL 與 SiO2 粒子外，更導入 金奈米粒子 (Gold Nanoparticles) 作為挑戰汙染物。測試範圍涵蓋 5nm 至 1um，能精確驗證超微孔濾膜的截留效率 (Retention Rate) 與去除等級 (Removal Rating)，滿足半導體先進製程的嚴苛過濾需求。
濾膜分析
形貌測試
Morphology
Test
整合 OM (光學顯微鏡) 與高解析 SEM (掃描式電子顯微鏡) 技術，提供全方位的濾材形貌檢測。具備業界領先的 截面 (Cross-section) 製樣能力，能清晰呈現濾膜內部的微觀孔隙結構及膜厚數據，為濾心研發與結構驗證提供最直觀的視覺證據。
採用高精度 Porometer 孔徑分析儀，基於 氣液置換法 (Capillary Flow Porometry, CFP) 原理進行掃描。透過測量濾膜的乾/濕流量曲線 (Dry/Wet Curve)，精確計算出最大孔徑 (Bubble Point)、平均孔徑 (Mean Flow Pore) 及完整的孔徑分佈圖，是界定濾膜過濾等級的黃金標準。
孔徑測試
Pore Size
Test
其他微量分析
與應用服務
提供全方位的半導體濕製程化學品檢測服務，涵蓋常見酸鹼與溶劑（IPA, HCl, HNO3, H2O2等）及光阻、TMAH 等特殊配方。
引進業界頂規 Agilent ICP-MS 8900，具備強大的 多元素分析 能力，偵測極限 (DL) 突破至 < 1 ppt。利用 MS/MS 模式消除質譜干擾，可額外鎖定 Si, P, S, B 等傳統難測元素，確保您的原物料符合最嚴苛的半導體潔淨度要求。
電子級化學品
微量金屬分析
ICP-MS
具備處理各類電子級化學品（如 IPA, OK73）的檢測能力。對於水性樣品，透過 液液萃取 (Liquid-Liquid Extraction) 方式進行前處理，並結合 GC-MS 質譜儀 進行全掃描，提供精確的有機成分定性與定量報告。
電子級化學品
微量有機物分析
GC-MS
採用高靈敏度 IC (離子層析儀) 技術，針對電子級化學品與 超純水 (UPW) 進行全方位掃描。精確分析 陽離子 (Li⁺, Na⁺, K⁺, NH₄⁺, Ca²⁺, Mg²⁺) 與 陰離子 (F⁻, Cl⁻, NO₃⁻, SO₄²⁻, PO₄³⁻) 含量，偵測極限可達 ppt 等級，嚴格把關製程水質與物料純度。
電子級化學品
微量離子分析
IC
突破傳統光學粒子計數器 (LPC) 的偵測極限。引進高階 DMA-CPC (微分電移動分析儀 - 凝結核計數器) 技術，針對 IPA、UPW (超純水)、OK73 及各類電子級溶劑，精確量測 2nm以上、64nm 以下的 奈米微粒 (Nanoparticles) 濃度與 粒徑分佈 (PSD)，協助您抓出隱形的良率殺手。
電子級化學品
微粒分析
DMA-CPC
您的需求超出了標準測試範圍嗎？
我們擁有半導體頂尖的儀器庫與專家團隊，專注於解決困難量測 (Difficult Measurement) 挑戰。提供量身打造的 客製化分析服務 (Customized Analysis) 與 新檢測方法開發 (Method Development)，協助您建立 專屬的品質驗證標準。
客製化分析
與方法開發
Others