專為半導體化學機械研磨 (CMP) 製程設計的高階 PP 深層濾心。採用獨特 3D 梯度結構與奈米纖維技術，能精準攔截造成刮傷的團聚大顆粒 (Agglomerates)，同時讓有效研磨粒子通過，維持 Slurry 粒徑分佈不變。提供 70nm 至 1.0µm 精度，是優化 CMP 良率與降低成本的最佳方案。

專為工業過濾設計的高效能 PP 熔噴濾芯。採用 100% 純淨聚丙烯原料與獨特三層梯度孔徑設計，具備高孔隙率與卓越的納汙量。提供溝槽、壓紋、橘皮等多種表面處理以增加過濾面積。耐受強酸強鹼與有機溶劑，是 RO 前置過濾、廠務廢水與化學製程的經濟型首選。