產品特色:

• 複合材質結構 (Composite Construction): 採用高階 PTFE (聚四氟乙烯) 濾膜搭配高密度聚乙烯 HDPE (High-Density Polyethylene) 支撐層與骨架。這種組合保留了 PTFE 對化學品的廣泛耐受性，同時利用 HDPE 結構降低成本，提供極佳的化學兼容性。

• 奈米級微粒去除 (Nano-Scale Particle Removal): 專為半導體工業的高純度化學品設計，提供低至 20nm 的過濾精度選項，有效攔截影響良率的微小顆粒。

• 高流速與長壽命 (High Flow & Long Lifetime): 優化的折疊結構設計，創造出低壓差 (Low Pressure Drop) 與高流速表現，搭配高達 2.8 m² 的過濾面積，顯著延長濾芯更換週期。

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產品介紹:

在半導體濕製程中，並非所有應用都需要昂貴的全氟 (All-PFA) 濾芯。對於運作溫度在 40°C 以下的酸鹼清洗或蝕刻站，您需要的是一款既能保證潔淨度，又能有效控制成本的產品。

半導體級 PTFE/HDPE 折疊濾芯 正是為此類「常溫化學製程」量身打造的經濟型方案。它採用與旗艦款相同的 PTFE 濾膜 確保過濾效能，但在支撐結構上改用高品質 HDPE。這使得 半導體級 PTFE/HDPE 折疊濾芯 在處理氫氟酸 (HF)、緩衝氧化蝕刻液 (BOE) 或一般酸鹼液時，展現出卓越的性價比。每一支濾芯皆經過 100% 完整性測試，並提供超純水預濕潤 (Pre-wet) 選項，讓您開箱即用，兼顧品質與效率。

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技術規格表 Spec:

• 濾膜材質: PTFE (Polytetrafluoroethylene)

• 支撐層/核心/外罩: HDPE (High-Density Polyethylene)

• 密封圈 (O-ring): EPDM / TEV (包覆式) / 其他

• 過濾精度 (Removal Rating): 20nm, 30nm, 50nm, 0.1µm, 0.2µm

• 有效過濾面積 (每10英吋):

  • (φ68mm): 1.2 m²

  • (φ81mm): 1.8 m²

  • (φ81mm): 2.2 m²

  • (φ81mm): 2.8 m² (高納汙量型)

• 最大操作壓力:

  • 正向: 0.4 MPa (58 psi) @ 25°C

  • 反向: 0.3 MPa (43 psi) @ 25°C

• 最高使用溫度: 40°C (104°F)

• 包裝方式: 乾式包裝 (Dry) 或 超純水預濕潤 (Pre-wet by UPW)

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優勢:

• 最佳性價比 (Cost-Performance): 在不犧牲過濾精度的前提下，利用 HDPE 骨架大幅降低耗材成本，特別適合用量大的中央供液系統 (CDS) 或廢水回收端。

• 超高過濾面積: 提供 濾膜規格 (2.8 m²)，比一般標準濾芯增加 40% 以上的過濾面積，能容納更多汙染物，減少停機更換頻率。

• 廣泛的化學適用性: 適合多種類的化學品過濾，尤其是在常溫環境下的酸鹼液體，提供穩定的微粒控制能力。

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Target Applications (應用場景):

• 濕式蝕刻與清洗 (Wet Etch and Clean): 常溫下的酸鹼清洗製程。

• 化學品過濾: 各類半導體與光電產業用高純度化學品 (High Purity Chemicals)。

• 大流量供液系統: 廠務端的大宗化學品輸送過濾。

• 一般工業應用: 電鍍液、顯影液等非高溫製程流體。

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