
疏水性 PTFE 奈米摺疊式濾芯:20nm 頂級攔截與極低金屬溶出,半導體製程的純淨防護
產品特色:
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奈米級高精密過濾 (Nano-Scale Precision): 採用先進的奈米濾材,提供 20nm、30nm、50nm 三種極致精度選擇。濾材開孔極度均勻,能確保微粒攔截的絕對一致性,並在長週期運行中 保持流量穩定。
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極低金屬離子溶出 (Ultra-Low Metal Extractables): 針對半導體對金屬汙染的「零容忍」標準,本產品經過嚴格的 11 種金屬離子溶出測試,確保總金屬溶出量 < 3μg/device,杜絕製程良率因微量金屬汙染而受損。
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最高規格無塵室製程 (Cleanroom Manufactured): 標準品皆於 Class 1,000 無塵室等級生產。針對極高潔淨度需求,另可升級在 Class 100 無塵室等級進行沖洗、烘乾與包裝。
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客製化預潤服務 (Pre-wetting Option): 雖然主濾材為疏水性 PTFE,但我們提供貼心的預潤服務。疏水濾芯可選擇預潤,有效縮減上機預備時間,讓廠務人員能實現真正的「隨插即用」。
產品介紹: 在半導體先進節點 (Advanced Nodes) 製程或高階顯示器生產中,化學藥液與超純水中的極微小缺陷 (Defect) 與金屬離子,都會導致晶圓報廢。傳統的微米級濾芯已無法滿足這些嚴苛要求。
疏水性 PTFE 奈米摺疊式濾芯 是跨入奈米級防護的關鍵組件。它以化學惰性極佳的 PTFE 為基材,能耐受幾乎所有的強酸、強鹼及有機溶劑。結合奈米級的精密製膜工藝,即便在 4.8 bar (25°C) 或高溫 90°C (2.1 bar) 的高壓差下,依然能維持極佳的結構完整性與出色的液體通量。其靈活的尺寸規格 (5 ~ 40 inch) 可無縫接軌您現有的各式濾殼。
技術規格表 Spec:
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主濾材: 疏水性 PTFE (Hydrophobic Polytetrafluoroethylene)
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過濾精度規格 (Filtration Rating):
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20, 30, 50 nm
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金屬離子溶出量:
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< 3μg/device (Testing conducted for 11 metals)
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操作範圍 (Max ΔP):
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4.8 bar at 25°C
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2.1 bar at 90°C
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硬體規格參數:
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長度規格 (Length): 5, 10, 20, 30, 40 inch
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濾芯外徑 (Outer Diameter): Ø65mm, Ø69mm, Ø83mm
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端蓋型式 (End Caps): 雙開口, 2-222平尾, 2-222火箭尾, 2-226平尾, 2-226火箭尾
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密封材質 (O-rings/Gaskets): Silicone, EPDM, Viton, PTFE Encapsulated Viton, PTFE
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優勢:
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挑戰製程極限: 20nm 的攔截孔徑是目前業界最高標準之一,能有效濾除光阻劑、顯影液中的奈米級微粒,確保晶片線寬的完美成像。
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雙重潔淨保障: 除了極低的金屬析出保證,更有 Class 100 等級的沖洗包裝選項,確保濾芯從拆封到安裝,都不會將外部環境微粒帶入系統。
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穩定的水力學表現: 由流量圖可見,均勻的開孔技術讓 50nm 甚至 20nm 規格的濾芯,依然保有順暢的壓差-流量斜率,不會因為孔徑變小而造成系統頻繁憋壓。
Target Applications (應用場景):
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半導體 (Semiconductor): 光阻劑 (Photoresist)、蝕刻液、顯影液的奈米級缺陷濾除。
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超純水 (Ultrapure Water): 半導體廠 18.2 MΩ.cm 超純水系統的終端精密防護。
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化學品製程 (Chemical Processes): 電子級高純度化學品 (Electronic Grade Chemicals) 的提純過濾。
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製藥業 (Pharmaceutical): 高敏感度生物製劑與 API 原料藥的精密澄清。
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