實驗室超純水機

技術規格表 Spec​

• 進水水源: 自來水 / RO 純水 /去離子水 (DI Water) / 超純水

• 產水水質: 極低金屬 Ultrapure Water 超純水 (ICP-MS Grade)

• 產水金屬離子 (視來源水質略有變動):

  • 個別金屬離子 (Single Metal): < 5ppt

  • 總金屬離子 (Total Metal): < 20ppt

• 電阻率 (Resistivity): 18.2 MΩ.cm @ 25°C

• 總有機碳 (TOC): < 3 ppb (搭配 UV 模組)

• 微生物 (Bacteria): < 0.01 CFU/ml

• 微粒 (Particles > 0.1µm): < 1 /ml

• 內毒素 (Endotoxin): < 0.001 EU/ml (選配 UF 模組，適用於生科應用)

• 產水速度: 15 L/hr 或 30 L/hr 或 45 L/hr (可選)

• 產水流速: 最高可達 2.0 L/min (可調)

• 顯示介面: 5吋彩色觸控螢幕，具備耗材壽命警示功能

• 外型尺寸: 適合一般實驗桌深度的流線型設計

• ​​附終端先進半導體等級樹脂盒，達到先進ICPMS、ICPQQQ所需水質 

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產品介紹:

對於進行 PPT (Parts Per Trillion) 甚至 PPQ (Parts Per Quadrillion) 等級分析的實驗室而言，一般的 18.2 MΩ.cm 超純水往往已不足以應付。微量的金屬溶出或管路汙染，都可能成為影響實驗成敗的「雜訊」。

J-Pure Pro 是我們針對這些極端需求所推出的「進階版」桌上型超純水系統。我們重新定義了 Type 1 的標準——不僅是電阻率達標，更嚴格管控特定元素的殘留量。透過獨家的純化配方與低溶出管路設計，J-Pure Pro 能穩定產出個別金屬 < 5 ppt 的極致純水。這意味著您在進行 ICP-MS 樣品配製、空白液 (Blank) 準備或半導體晶圓清洗時，擁有一個幾近「絕對空白」的起點。它是追求數據完美的分析化學家，不可或缺的桌上戰略物資。

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產品特色:

• 業界最佳的金屬控制 (Best-in-Class Metal Purity): 突破傳統 Type 1 純水極限，實現個別金屬元素 < 5 ppt、總金屬離子含量 < 20 ppt 的驚人純度，直接滿足半導體級分析需求。

• 專為微量分析設計 (Designed for Trace Analysis): 針對 ICP-MS 與原子吸收光譜 (AA) 使用者優化，消除水源中的 Na, K, Ca, Fe, Al, B, Si等背景干擾，確保檢測極限 (LOD) 再下探。

• 極致輕巧的桌上型旗艦 (Compact Flagship): 將頂級的半導體級樹脂與除硼技術濃縮於精巧機身中，不佔用寶貴的實驗桌空間，即可隨手取得最高等級超純水。
   

優勢:​

• 數據的可信度: 極低的金屬背景值讓您在測量極低濃度樣品時，擁有極佳的信噪比 (S/N Ratio)，避免因背景扣除誤差導致的數據失真。

• 空間與效能的完美平衡: 市場上同級別的「超低金屬」純水系統多為大型落地機種，要價數百萬，J-Pure Pro 讓您在有限的實驗桌上，也能享有晶圓廠等級的用水品質。

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Target Applications (應用場景):

• 超微量元素分析: ICP-MS, ICP-QQQ, GFAAS 的極低濃度樣品製備、稀釋與清洗。

• 半導體材料研發: 第三代半導體、高純度化學品 (High Purity Chemicals) 的品質管控。

• 環境與地質化學: 極低濃度的同位素分析、冰芯或岩石樣本的微量金屬檢測。

• 奈米科技: 奈米粒子的合成與清洗，避免外來離子影響粒子表面特性。

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Email: service@jyfiltec.com