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委託測試服務:
奈米級濾心濾效測試 (Filter Retention Efficiency Testing Service) ,5nm~100nm 濾效挑戰測試

服務特色:

  • 5nm 極致挑戰能力 (5nm Ultimate Challenge): 領先業界引入 金奈米粒子 (Gold Nanoparticles) 作為挑戰物,提供低至 5nm 的驗證能力。金粒子具備極高的電子密度與單分散性,能精確評估 UPE/PTFE/Nylon 等高階濾膜對奈米級缺陷的攔截效能。

  • 多材質模擬真實汙染 (Multi-Material Simulation): 除標準二氧化矽 (SiO2) 外,特供 氧化鐵 (Fe2O3) 測試以模擬管路鏽蝕汙染,以及 金 (Au) 模擬高密度金屬微粒,全方位還原半導體製程中可能遇到的各類「殺手級顆粒 (Killer Particles)」。

  • 客製化測試方案 (Customized Protocol): 可依據客戶需求調整測試流速、壓力、溫度與液體介質 (DI Water 或特定溶劑),並提供完整的穿透曲線 (Breakthrough Curve) 與攔截效率報告。

服務介紹:

在半導體先進製程中,濾芯標示的 "0.02µm (20nm)" 或 "10nm" 精度往往缺乏統一的驗證標準。一般的顆粒計數器 (LPC) 在偵測 20nm 以下微粒時已接近極限,難以區分背景雜訊與真實穿透。

浚淵科技 濾效委託測試服務 採用「挑戰性測試 (Challenge Test)」方法論,為您提供最具公信力的數據。我們使用 NIST 可溯源或高度單分散的奈米懸浮液(如 5nm Gold 或 15nm Fe2O3)注入上游,並利用高靈敏度的 ICP-MS 或奈米粒徑分析儀監測下游穿透量。這套方法能精確計算出濾芯的 Log Reduction Value (LRV),幫助濾芯製造商驗證新品效能,或協助晶圓廠進行新濾芯導入 (Qual) 前的第三方評估。

可提供的挑戰顆粒規格 (Available Challenge Particles):

  • 二氧化矽 (Silica, SiO2):

    • 粒徑: 50 nm, 100 nm

    • 用途: 模擬 CMP Slurry 殘留或一般環境落塵,標準化的親水性硬質顆粒。

  • 金奈米粒子 (Gold, Au):

    • 粒徑: 5 nm, 10 nm, 20 nm, 30 nm

    • 用途: 針對 10nm 以下濾芯的極限測試。金的化學穩定性高且易於定量,是驗證最先進 UPE/PTFE 濾膜孔徑分佈的黃金標準。

  • 氧化鐵 (Iron Oxide, Fe2O3):

    • 粒徑: 15 nm

    • 用途: 模擬不鏽鋼管路老化、幫浦磨損產生的金屬氧化物汙染。

  • 其他需求 (Others):

    • 可依需求提供 PSL (聚苯乙烯微球) 或其他客製化粒徑/材質服務。

測試項目與輸出成果:

  • 單次通過效率 (Single Pass Efficiency): 測試濾芯在特定流速下的瞬間攔截率。

  • 壽命與納汙量測試 (Life & Capacity): 持續通入汙染物直到壓差達到設定值,評估濾芯的總納汙能力。

  • 粒徑分級效率 (Fractional Efficiency): 針對不同粒徑顆粒的去除效率曲線。

  • 完整測試報告: 包含原液粒徑分佈圖 (PSD)、操作參數記錄與效率計算書。

競爭優勢:

  • 突破光學極限: 使用 ICP-MS 分析金屬示蹤劑 (Au/Fe),突破傳統光學計數器在 20nm 以下的偵測盲區,真實看到 5nm 顆粒的穿透情形。

  • 真實情境模擬: 提供 Fe2O3 選項,比起單純使用軟質的 PSL,更能反映濾芯對剛性金屬汙染物的攔截真實力。

  • 彈性委託模式: 無需購買昂貴的測試設備與標準品,單支濾芯即可送測,大幅降低研發與品管成本。

Target Applications (應用場景):

  • 濾芯原廠 (Filter Manufacturers): 新產品研發驗證、競品分析 (Benchmarking)、出廠規格標定。

  • 晶圓代工廠 (Fabs): 新濾芯導入評估 (IQC)、第二供應商 (2nd Source) 資格驗證、製程異常解析 (Troubleshooting)。

  • 超純水系統商: 終端過濾器 (Final Filter) 的效能確認。

​若有任何濾心測試相關需求,歡迎聯繫 service@jyfiltec.com 免費諮詢。

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