產品特色:

• 全氟素結構 (All-Fluoropolymer Construction): 濾芯整體由 PTFE 濾膜與 PFA 支撐層/外殼組成，完全不含任何非氟聚合物。這種「全氟」設計確保了極低的溶出物 (Low Extractables) 與金屬離子析出，避免對敏感的晶圓製程造成二次汙染。

• 奈米級過濾精度 (Nano-Scale Retention): 針對先進製程節點的需求，提供低至 10nm 的過濾精度選項，能有效攔截化學液中的膠體與奈米微粒，大幅降低晶圓缺陷 (Defect)。

• 卓越的化學耐受性 (Excellent Chemical Resistance): 專為半導體 SEMI-WEC 應用打造，可完美對應 SC1 (氨水/雙氧水)、SC2 (鹽酸/雙氧水)、49% HF (氫氟酸)、HNO3 (硝酸) 以及 EKC、NMP 等強極性溶劑。

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產品介紹:
在半導體 7nm/5nm/3nm 製程中，化學品的純淨度要求已達到 PPT (兆分之一) 等級。傳統濾芯在面對高溫硫酸或強腐蝕性剝離液時，往往會因材料降解而釋出微粒。

半導體級 All PTFE 全氟拋棄式濾心 是專為這些「最嚴苛濕製程」開發的終極解決方案。我們採用 高流速 PTFE 膜，結合高純度 PFA 骨架，創造出對化學品幾乎完全惰性的過濾環境。無論是 180°C 的高溫化學槽，還是高滲透性的有機溶劑，半導體級 All PTFE 全氟拋棄式濾心 都能在維持低壓差的同時，提供穩定的顆粒去除效能。此外，我們提供多種膜面積選項，其中最高可達 2.8 m² 的過濾面積，顯著延長使用壽命。

拋棄式 (Disposable) / 膠囊式 (Capsule)  的設計，可以讓操作員安全地更換濾心，減少污染。

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技術規格表 Spec:

• 濾膜材質: PTFE (Polytetrafluoroethylene)

• 支撐層/核心/濾殼: PFA (Perfluoroalkoxy)

• 過濾精度 (Removal Rating): 10nm, 20nm, 30nm, 50nm, 0.1µm, 0.2µm

• 有效過濾面積 (每10英吋):

  • (φ68mm): 1.2 m²

  • (φ81mm): 1.8 m²

  • (φ81mm): 2.2 m²

  • (φ81mm): 2.8 m² (高納汙量型)

• 最高操作溫度:

  • 一體式 / 囊式 (Disposable / Capsule): 180°C (356°F)

• 包裝方式: 乾式包裝 (Dry) 或 超純水預潤濕 (Pre-wet by UPW)​

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優勢:

• 10nm 先進製程對應: 市場上少數能提供穩定 10nm 攔截效率的濾芯，滿足最先進半導體節點對化學品潔淨度的嚴苛標準。

• 耐高溫 180°C: 一體式外殼版本可耐受高達 180°C 的操作溫度，是高溫磷酸與硫酸製程的唯一選擇。

• 便捷的預濕潤選項: 提供 UPW (超純水) 預濕潤包裝，客戶開封後可直接安裝使用，大幅縮短上機前的沖洗時間 (Flush-up time) 與廢液排放。

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Target Applications (應用場景):

• 半導體清洗製程 (Cleaning): SC1, SC2, SPM (硫酸/雙氧水) 循環過濾。

• 濕式蝕刻 (Wet Etching): 49% HF (氫氟酸), BOE (緩衝氧化蝕刻液), HNO3 (硝酸) 過濾。

• 光阻剝離與去膠: EKC, NMP (N-甲基吡咯烷酮) 等有機溶劑與剝離液過濾。

• 化學品供應系統 (CDS): 高純度化學品儲槽與輸送管路的終端過濾。

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