
01
半導體濕製程
蝕刻、清洗、顯影等液態化學品過濾
02
CMP 製程
銅、鎢、氧化物 CMP 漿料與後清洗液過濾
03
光阻製程
光阻液、顯影液、去光阻液的終端過濾
04
生物製藥
緩衝液、培養基、製劑過濾與除菌應用
05
精密水處理
超純水系統、RO 前後處理與 POU 過濾
06
分析實驗室
樣品前處理、膜片耗材與萃取測試

蝕刻、清洗、顯影等液態化學品過濾
銅、鎢、氧化物 CMP 漿料與後清洗液過濾
光阻液、顯影液、去光阻液的終端過濾
緩衝液、培養基、製劑過濾與除菌應用
超純水系統、RO 前後處理與 POU 過濾
樣品前處理、膜片耗材與萃取測試