What We Do
服務項目
01
濾心濾效驗證
依據客戶製程條件與材料特性，執行微粒挑戰測試與保留率評估。
02
金屬潔淨度分析
以 ICP-MS 檢測濾心金屬溶出，提供符合半導體級的潔淨度報告。
03
有機潔淨度分析
執行萃取測試與 TOC 檢測，量化濾心對目標溶劑的相容性。
04
客製化驗證方案
依客戶特殊化學品與製程條件規劃測試流程與報告格式。
05
PTFE 濾心再生
提供 PTFE 濾心清洗、再生與潔淨度驗證，延長使用壽命並降低成本。
Reclaim & Recycle
PTFE 濾心再生、回收
與工研院合作開發 PTFE 濾心再生、回收，特殊濾心再生製程（專利申請中）。
- 濾心精度
- 2nm 至 0.1μm
- 材質
- PTFE 濾膜 / PFA 材料
- 形式
- 拋棄式 (Disposable)、濾心式 (Cartridge)
- 潔淨度
- Total metals < 2μg/device (10")；NVR < 18mg/device
- 應用
- 高規 PTFE 濾心降規、用作前置濾心、額外增設串聯濾心、取代價格敏感非 PTFE 製程
- 其他
- 與工研院合作開發特殊濾心再生製程（專利申請中）
特殊濾心再生製程（專利申請中）
ReactoClean
Etch, dissolve, decompose, and break interactions by chemical reactions and molecular interactions
PeneClean
Improved penetration into smaller pores with less viscous and high diffusivity liquid
SonaClean
Provide external energy source to dislocate impurities and overcome desorption energy barrier
9-Step Proposed BKM ｜ 4 MODULES 9 STEPS
濾心再生清洗流程
依污染物類型逐段處理：Conditioning／Pre-wet → 有機物 → 金屬 → Silica → 最終水相置換。
01Conditioning & Pre-wetSTEPS 1–3
1UPW preclean
1 L · one-pass · Gigasonic
除殘酸／預洗水相污染物
2IPA preclean
1 L · 30 min · Gigasonic
預潤濕／預洗有機相污染物
3UPW exchange
1 L · one-pass · Gigasonic
IPA → UPW，回到水相
02有機物去除STEPS 4–5
41% SPM clean
1 L · 10 min · Gigasonic
氧化有機物／裂解較高 MW 物種
5UPW rinse
1 L · one-pass · Gigasonic
除殘酸／回到水相
03金屬去除STEPS 6–7
65% aqua regia vapor
100 mL · vapor · 10 min
以加熱王水蒸氣去除金屬污染物
7UPW rinse
1 L · one-pass · Gigasonic
除殘酸／回到水相
04Silica 去除 & FinalSTEPS 8–9
81% HF + 1% HNO₃
1 L · 10 min · Gigasonic OFF
移除 silica 類污染物
9UPW final rinse
1 L · one-pass · Gigasonic
除殘酸／完成水相置換
- 共通 UPW 置換
- 1 L · one-pass · Gigasonic · endpoint = pH / conductivity
- 材質 Gate
- 限耐 HF／強氧化酸濾材；含不鏽鋼零件應採分流 recipe
Measured Data
10nm PTFE 濾心再生實測數據
新濾心與再生濾心並列對照，濾效、潔淨度均達新品水準。
| 檢測項目 | 單位 / 規格 | 新濾心 | 再生濾心 |
|---|---|---|---|
| 有機汙染（長碳鏈）C12–C30 LHC | mg/device | <0.5 ppm | <0.5 ppm |
| 有機汙染（非揮發有機物）NVR | mg/device10nm 規格 = 18 | 3.5 | 1.8 |
| 金屬汙染 23 Metals extraction | ppt (ng/device)10nm 規格 = 3500 ppt | 330.5 | 353.2 |
| 濾效 GNP 5nm Retention | % | 99.4% | 99.3% |
Laboratory
全方位微汙染諮詢服務
從應用工程、實驗室委測到知識轉移，協助客戶把微汙染控制做到位。
01
應用工程
Applications Engineering
- 在各類酸、鹼、有機溶劑中，對濾心進行金屬、有機物與顆粒去除效率測試
- 協助客戶優化整體過濾與淨化流程，降低污染、缺陷
- 成本評估各式濾心在濕蝕刻、清洗及光阻製程化學品中的相容性
02
實驗室分析、委測
Analysis
- 新舊濾心與製程元件（管材、包材）等的萃取測試、濾效測試
- 汙染物檢測服務、各式實驗室委測服務
03
知識轉移服務
Knowledge Transfer
- 定性、定量方法開發與轉移
- 協助實驗室開發創新量測技術
- 協助客戶在微汙染量測上優化 4M1E（人、機、料、法、環），改善量測可靠度
- 微汙染控制課程、訓練、與顧問服務
實驗室分析、委測流程
浚淵提供放心的實驗室分析流程。從測試濾心、濾膜測試，到各種微汙染分析。
01
接收客戶需求
02
接收樣品
03
客戶內部討論
04
實驗室討論
05
報價
06
案件開始
07
實驗室測試
08
測試報告、說明
09
客戶提出反饋
10
額外檢查、說明
11
客戶結案
12
樣品棄置（1 月）
13
跟進狀況
14
微汙染控制建議
Validation
濾心、濾膜驗證
浚淵提供完整的濾心、濾膜測試平台。
物理特性、外觀
孔徑分佈測試
Pore size testing
孔洞形貌
Morphology
濾心性能
完整性 & 流量
Integrity / Flow rate
濾效
Retention
潔淨度
有機溶出
Organics
金屬溶出
Metals
顆粒落出
Particle
檢測設備
孔徑分佈儀 Porometer
PMI
孔徑 2nm ~ 500μm
常見 Capillary Flow Porometry 或 Liquid-Liquid Porometry 方法
電子顯微鏡 SEM
Hitachi
解析度 <2nm
俯視及橫切面影像皆可拍攝
完整性測試儀 Integrity Tester
自組系統 Custom
各尺寸、各形式
Air Pressure 依標準 30psi，或依客戶要求
感應耦合電漿質譜 ICPMS / ICPQQQ
Agilent
偵測極限 1ppt
常見 30 metals、Silicon、Boron、Sulfur、Phosphorous 各種金屬皆可
氣相層析質譜 GCMS
Agilent
偵測極限 1ppb – 100ppb
溶劑 IPA / Hexane / OK73；目標 LHC 長碳鏈、Phthalates 塑化劑等
微分電移動度分析儀－凝結粒子計數器 DMA-CPC
ITRI
偵測極限 ≥100 particles/mL（視化學品）
溶劑 UPW / IPA / OK73 及其他
實驗室全分析項目
浚淵以自有實驗室及與全國各大分析實驗室配合，提供完整的各式分析項目。
ICPMSICPQQQDMA-CPCGCMSPorometerNVRSEM / EDSFTIRAFMVPD-ICPMSTitrationRetention TestIntegrity TestFlow Rate TestLoading CapacityGCLCMSLPCLCWafer DefectTOCICOthers