專為 SEMI-Photo 光刻工藝設計的高效能濾芯。採用天然親水性 Nylon 66 濾膜，提供 2nm 至 0.1µm 的奈米級精度。具備優異的有機潔淨度與低金屬析出，能有效攔截光阻膠與溶劑中的細微顆粒，確保黃光製程的良率與穩定性。
