01
半導体ウェットプロセス
エッチング、洗浄、現像などの薬液ろ過
02
CMPプロセス
銅・タングステン・酸化膜CMPスラリーおよびポストCMP洗浄液のろ過
03
フォトレジスト工程
フォトレジスト、現像液、レジスト剥離液のファイナルろ過
04
バイオ医薬品
バッファー、培地、製剤のろ過および除菌用途
05
精密水処理
超純水システム、RO前後処理、ユースポイント(POU)ろ過
06
分析ラボ
サンプル前処理、メンブレン消耗品、抽出物試験
エッチング、洗浄、現像などの薬液ろ過
銅・タングステン・酸化膜CMPスラリーおよびポストCMP洗浄液のろ過
フォトレジスト、現像液、レジスト剥離液のファイナルろ過
バッファー、培地、製剤のろ過および除菌用途
超純水システム、RO前後処理、ユースポイント(POU)ろ過
サンプル前処理、メンブレン消耗品、抽出物試験