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技術サービス

ろ材の選定から現場での評価、清浄度分析、PTFEフィルター再生まで、技術面をトータルでサポートします。

What We Do

サービス内容

01

フィルター捕捉性能評価

お客様のプロセス条件と材料特性に基づき、粒子チャレンジ試験と捕捉率評価を実施します。

02

金属清浄度分析

ICP-MSでフィルターからの金属溶出を測定し、半導体グレードの清浄度報告書をご提供します。

03

有機物清浄度分析

抽出物試験とTOC測定を行い、対象溶剤に対するフィルターの適合性を定量化します。

04

カスタマイズ評価プラン

お客様の特殊な薬液やプロセス条件に合わせて、試験フローと報告書形式を設計します。

05

PTFEフィルター再生

PTFEフィルターの洗浄・再生と清浄度評価を行い、寿命を延ばしてコストを削減します。

Reclaim & Recycle

PTFEフィルターの再生・回収

工業技術研究院(ITRI)と共同で、PTFEフィルターの再生・回収と特殊なフィルター再生プロセス(特許出願中)を開発しました。

ろ過精度
2nm~0.1μm
材質
PTFEメンブレン / PFA材料
形式
ディスポーザブル(Disposable)、カートリッジ(Cartridge)
清浄度
Total metals < 2μg/device (10");NVR < 18mg/device
用途
高グレードPTFEフィルターのダウングレード転用、プレフィルターとしての使用、直列フィルターの追加設置、価格重視の非PTFEプロセスの代替
その他
工業技術研究院(ITRI)と共同開発した特殊フィルター再生プロセス(特許出願中)
特殊フィルター再生プロセス(特許出願中)
ReactoClean

化学反応と分子間相互作用により、汚染物質をエッチング・溶解・分解し、付着力を断ち切ります

PeneClean

低粘度・高拡散性の液体で、より微細な細孔の奥まで浸透させます

SonaClean

外部からエネルギーを与えて不純物を剥離させ、脱着のエネルギー障壁を越えさせます

9-Step Proposed BKM | 4 MODULES 9 STEPS

フィルター再生洗浄フロー

汚染物の種類ごとに段階的に処理します:Conditioning/Pre-wet → 有機物 → 金属 → Silica → 最終水相置換。

01Conditioning & Pre-wetSTEPS 1–3
1UPW preclean
1 L · one-pass · Gigasonic
残留酸の除去/水相汚染物の予備洗浄
2IPA preclean
1 L · 30 min · Gigasonic
プレウェット/有機相汚染物の予備洗浄
3UPW exchange
1 L · one-pass · Gigasonic
IPA → UPW、水相に戻す
02有機物除去STEPS 4–5
41% SPM clean
1 L · 10 min · Gigasonic
有機物の酸化/高MW成分の分解
5UPW rinse
1 L · one-pass · Gigasonic
残留酸の除去/水相に戻す
03金属除去STEPS 6–7
65% aqua regia vapor
100 mL · vapor · 10 min
加熱した王水蒸気で金属汚染物を除去
7UPW rinse
1 L · one-pass · Gigasonic
残留酸の除去/水相に戻す
04Silica除去 & FinalSTEPS 8–9
81% HF + 1% HNO₃
1 L · 10 min · Gigasonic OFF
シリカ系汚染物の除去
9UPW final rinse
1 L · one-pass · Gigasonic
残留酸の除去/水相置換の完了
共通UPW置換
1 L · one-pass · Gigasonic · endpoint = pH / conductivity
材質Gate
HF/強酸化性酸に耐えるろ材に限定、ステンレス部品を含むものは別recipeで処理
Measured Data

10nm PTFEフィルター再生の実測データ

新品フィルターと再生フィルターを並べて比較しました。捕捉性能、清浄度ともに新品同等の水準に達しています。

評価項目単位 / 規格値新品フィルター再生フィルター
有機汚染(長鎖炭化水素)C12–C30 LHCmg/device<0.5 ppm<0.5 ppm
有機汚染(不揮発性有機物)NVRmg/device10nm 規格値 = 183.51.8
金属汚染 23 Metals extractionppt (ng/device)10nm 規格値 = 3500 ppt330.5353.2
捕捉性能 GNP 5nm Retention%99.4%99.3%
Laboratory

総合的な微量汚染コンサルティングサービス

アプリケーションエンジニアリング、ラボ受託試験から技術移転まで、お客様の微量汚染管理を万全にするためのサポートを行います。

01

アプリケーションエンジニアリング

Applications Engineering
  • 各種酸・アルカリ・有機溶剤中でのフィルターの金属・有機物・パーティクル除去効率試験
  • お客様のろ過・精製プロセス全体を最適化し、汚染・欠陥を低減
  • ウェットエッチング・洗浄・フォトレジスト工程の薬液における各種フィルター適合性のコスト評価
02

ラボ分析・受託試験

Analysis
  • 新品・使用済みフィルターおよびプロセス部材(配管材、包装材)などの抽出試験、捕捉性能試験
  • 汚染物検出サービス、各種ラボ受託試験サービス
03

技術移転サービス

Knowledge Transfer
  • 定性・定量分析法の開発と移管
  • ラボにおける革新的な測定技術の開発支援
  • 微量汚染測定における4M1E(人・機械・材料・方法・環境)の最適化を支援し、測定の信頼性を向上
  • 微量汚染管理の講座、トレーニング、コンサルティングサービス

ラボ分析・受託試験の流れ

浚淵科技は安心してご依頼いただけるラボ分析フローをご提供します。フィルター・メンブレンの試験から各種微量汚染分析まで対応します。

01
お客様のご要望受付
02
サンプル受領
03
お客様社内でのご検討
04
ラボでの検討
05
お見積もり
06
案件開始
07
ラボ試験
08
試験報告書・ご説明
09
お客様からのフィードバック
10
追加確認・ご説明
11
お客様による案件完了
12
サンプル廃棄(1か月)
13
フォローアップ
14
微量汚染管理のご提案
Validation

フィルター・メンブレン評価

浚淵科技は、フィルター・メンブレンの総合的な試験プラットフォームをご提供します。

物理特性・外観
細孔径分布測定
Pore size testing
細孔形態
Morphology
フィルター性能
完全性 & 流量
Integrity / Flow rate
捕捉性能
Retention
清浄度
有機物溶出
Organics
金属溶出
Metals
パーティクル脱落
Particle

試験・分析設備

細孔径分布測定装置 Porometer
PMI
細孔径 2nm ~ 500μm
一般的な Capillary Flow Porometry または Liquid-Liquid Porometry 法
電子顕微鏡 SEM
Hitachi
分解能 <2nm
表面・断面のいずれの画像も撮影可能
完全性試験機 Integrity Tester
自社構築システム Custom
各サイズ・各形式
Air Pressure は標準30psi、またはお客様のご要望に準拠
誘導結合プラズマ質量分析計 ICPMS / ICPQQQ
Agilent
検出下限 1ppt
一般的な30 metals、Silicon、Boron、Sulfur、Phosphorousなど各種金属に対応
ガスクロマトグラフ質量分析計 GCMS
Agilent
検出下限 1ppb – 100ppb
溶媒 IPA / Hexane / OK73、測定対象 LHC 長鎖炭化水素、Phthalates 可塑剤など
微分型電気移動度分析器-凝縮粒子計数器 DMA-CPC
ITRI
検出下限 ≥100 particles/mL(薬液により異なる)
溶媒 UPW / IPA / OK73 ほか

ラボ分析項目一覧

浚淵科技は自社ラボに加え、台湾国内の主要分析ラボと連携し、各種分析項目を網羅的にご提供します。

ICPMSICPQQQDMA-CPCGCMSPorometerNVRSEM / EDSFTIRAFMVPD-ICPMSTitrationRetention TestIntegrity TestFlow Rate TestLoading CapacityGCLCMSLPCLCWafer DefectTOCICOthers
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フィルターの評価試験・再生の検討をご希望ですか?

ご使用の薬液、プロセス条件、現在お使いのフィルター仕様をお知らせください。技術チームが実施可能な試験プランとスケジュールをご提案します。

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