プロセス上の位置づけ
先端CMPプロセスにおける装置直近のファイナル(POU)ろ過。カプセル一体型設計でハウジングが不要なため小型で、装置内部のスペースが限られた場所にも取り付けられます。スクラッチ対策の最後の関門です。
主な特長
ハウジング不要
フィルターとシェルが一体成形されているため、ハウジングや配管を別途用意する必要がなく、設置の自由度が高くなります。もともとフィルターの設置スペースを確保していない装置では、これが唯一取り付け可能な選択肢であることも少なくありません。
安全な交換
カプセルごと交換するため、作業者がスラリーに触れることがなく、ハウジングの洗浄も不要です。残留スラリーによるバッチ間のクロスコンタミネーションを防ぎます。
粒子径分布の維持
スラリー中の凝集粒子やコロイドを効果的に除去しながら研磨に有効な砥粒は通過させ、粒子径分布(PSD)を変えずに維持するため、研磨レートや均一性に影響を与えません。
低パーティクル放出
オールPP構造で、出荷前に超純水でフラッシングしているため、使用開始初期にフィルター自体から放出されるパーティクルを低減します。

