微小汚染管理・分析装置

微小汚染管理・分析装置が扱うのは、フィルターでは捕捉しきれず目にも見えない問題、つまり薬液中のナノパーティクルが「どれだけ、どの大きさで、何の成分で、どこから来たのか」です。先端プロセスは 2 nm 世代に入り、10 nm の粒子一つで欠陥になり得ます。高性能な液中パーティクルカウンターでも検出下限は 20 nm 程度で、ファブが本当に信頼するのは「薬液をウェーハに載せたとき、どれだけパーティクルが残るか」です。

主力製品の UNISERS Lab Suite は、ウェーハベースの薬液パーティクル計測システムです。薬液をモニターウェーハにスピン塗布し、真空成膜で各パーティクルに光学アンテナを形成したうえで、光学スキャンにより数・サイズ（SEPS）と化学的指紋（SERS）を読み取ります。10 nm の SiO₂ 粒子を検出でき、SPx のウェーハマップとの相関は 70〜90%。リソトラック、ウェット処理装置、SP7 で構成するオフラインのウェーハ検査ラボを置き換え、人員は 5 名以上から 1 名へ、スペースは 60 m² から 8 m² 未満へ、サンプル量は 40〜100 L から 100〜500 mL へ削減します。

対象：電子グレード薬液メーカーの出荷検査、ファブの薬液受入検査（IQC）とサプライヤー変更時の評価、配合薬液・CMP スラリー・CMP 後洗浄液の清浄度管理、フィルター・バルブ・継手・容器の清浄度評価。先端プロセスのファブと、大手 IPA メーカー・配合薬液メーカーで導入済みで、A16／N2 向けに使われています。現在は中国本土市場に注力しており、中国本土の薬液メーカー・ファブは浚淵にサンプル測定を直接ご相談いただけます。